Назначение

Установка предназначена для очистки одиночных подложек, прямоугольной, круглой или любой другой произвольной формы из различных материалов (кварц, стекло, полупроводники, керамика и т.д.) с максимальным размером 350×350×180 мм в плазме кислорода и/или аргона.

Установка обеспечивает:

  • очистку поверхности подложек от органических загрязнений «островкового» и « пленочного типов
  • удаление флюсов с обрабатываемых поверхностей
  • удаление остатков фоторезиста с поверхности подложек
  • активацию поверхности обрабатываемых подложек для улучшения адгезии
  • подготовка поверхности перед выполнением ультразвуковой/термозвуковой сварки

Особенность установки

  • камера большого объема с десятью съёмными поддонами, позволяющая осуществлять на одной и той же установке обработку, как отдельных габаритных, так и большого количества небольших изделий
  • НЧ возбуждение плазменного разряда
  • возможность проведения процесса очистки изделий, чувствительных к повышенным температурам
  • возможность обработки изделий микроэлектроники, чувствительных к заряженным частицам

Установка плазмохимической очистки и активации поверхности УПХОА-5300 Установка плазмохимической очистки и активации поверхности УПХОА-5300

Состав установки

  • камера обработки
  • система вакуумной откачки на основе спирального безмасляного насоса
  • система газонапуска
  • блок электрический
  • система управления установкой
  • пылезащитный ламинарный бокс**(дополнительная опция)

** Пылезащитный бокс обеспечивает класс чистоты 5 ИСО по ГОСТ ИСО 14644-1-2002 в зоне обработки подложек.

Основные технические характеристики установки

Мощность ВЧ-генератора, Вт
1000
Частота ВЧ-генератора, кГц
50
Температура подложкодержателя, °С
60-150
Рабочее давление, Па
50-100
Количество газовых магистралей
2
Габаритные размеры установки, мм
616×654×1744

Система управления установкой

Система управления – на базе микроконтроллера с выводом информации на текстовый дисплей.

Система управления обеспечивает:

  • диагностику работоспособности установки
  • хранение в памяти не менее 20 программ различных циклов обработки объекта с не менее 20 шагами в каждой программе
  • мониторинг и регулирование технологического процесса в реальном масштабе времени

Для работы установка подключается

  • к сети переменного тока напряжением 220\380 В, частотой 50 Гц; нормы качества электроэнергии по ГОСТ 13109-87
  • вытяжной вентиляции, с производительностью не менее 1500м3 /час
  • контуру заземления

 Установка удовлетворяет требованиям для эксплуатации в «чистых помещениях» класса Р5 (100) по ГОСТ Р 50 766-95. Конструкция узлов и деталей удобна для промывки и очистки

МИКТ Установка плазмохимической очистки и активации поверхности УПХОА-5300