НАЗНАЧЕНИЕ УСТАНОВКИ

Формирование на поверхностях полупроводниковых, кварцевых, стеклянных и керамических пластин фоторезистивных/полимерных пленок заданной толщины.

ОСОБЕННОСТЬ УСТАНОВКИ: загрузка-выгрузка пластины на модули – ручная, дальнейшая ее обработка – автоматическая.

ПОТРЕБИТЕЛЬСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ УСТАНОВКИ

1. Размер обрабатываемых пластин, мм 
 
    - прямоугольные
от  60×48 до 125×125
    - круглые
40÷150
2. Толщина обрабатываемых пластин, мм
0,5-2,0
3. Привносимая дефектность для частиц размером > 0,2 мкм
< 0,1 деф./см2
4. Среднее время наработки на отказ (MTBF), час
500
5. Среднее время ремонта (MTTR), час
1
6. Габариты установки, мм (Ш×Г×В)
1250×750×2100

 

Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста УНФ-150ТП с термообработкой

СОСТАВ УСТАНОВКИ:

  • модуль нанесения фоторезиста
  • модуль термообработки (сушки)  после нанесения
  • блок электрический
  • система управления установкой
  • система термостабилизации (терморегулирования) фоторезиста
  • защитный бокс*.

* Конструкция пылезащитного бокса позволяет установить на нем фильтровентиляционный блок с габаритными размерами: (В×Ш×Г):  1325×1220×700 мм, создающий однонаправленный ламинарный поток воздуха в рабочем объеме бокса.

Пылезащитный бокс с фильтровентиляционным блоком обеспечивает класс чистоты 5 ИСО по ГОСТ ИСО 14644-1-2002 в зоне обработки пластин.

ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ВОЗМОЖНОСТИ УСТАНОВКИ:

  • подача раствора полимера на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование)
  • подача раствора полимера в любую заданную точку пластины
  • подача раствора полимера дозатором
  • стабилизация и регулирование температуры раствора полимера
  • удаление аэрозоля полимера с обратной стороны пластин
  • удаление полимера с торца пластин
  • удаление краевого валика
  • автоматическая промывка ванны растворителем
  • термообработка пластин на «горячей плите» контактным методом
Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста УНФ-150ТП с термообработкой Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста УНФ-150ТП с термообработкой

 

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ УСТАНОВКИ:

1. Диапазон задания скорости вращения, об/мин 
50÷6000
2. Точность поддержания скорости вращения об/мин
±5
3. Диапазон задания ускорения, об/мин/с
100÷20000
4. Дискретность задания скорости, об/мин
10
5. Дискретность задания ускорения, об/мин/с
100
6. Диапазон  регулирования температуры фоторезиста,°С
18-50 ±0,1
7. Дискретность задания времени обработки, с
1,0
8. Диапазон задания времени обработки, с
1,0-999
9. Диапазон задания  температуры «горячей плиты»,°С
70÷200
10. Точность поддержания температуры «горячей плиты»:
 
 70-120°С
±0,3°С
 120-150°С
±0,5°С
 150-200°С
±1,0°С
11. Диапазон дозирования фоторезиста, мл
0,5-5,0
12. Точность дозирования, мл
±0,1
13. Потребляемая мощность, не более, кВт
2,5

 

СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ УСТАНОВКОЙ

  1. Система управления – на базе микроконтроллера с выводом информации на  текстовый дисплей.
  2. Система управления обеспечивает:
    • диагностику работоспособности установки
    • хранение в памяти не менее 5 программ различных циклов обработки объекта
    • мониторинг и  регулирование технологического процесса в реальном масштабе времени.

ДЛЯ РАБОТЫ УСТАНОВКА ПОДКЛЮЧАЕТСЯ:

  • к сети переменного тока напряжением 220 В, частотой  50 Гц; нормы качества электроэнергии по ГОСТ 13109-87
  • сети сжатого, обеспыленного воздуха с давлением 0,4-0,6 МПа
  • вытяжной вентиляции, с производительностью не менее 50 м3/час
  • сети технической воды с температурой не более 14-16 °С
  • сети сливной канализации
  • контуру заземления

Установка удовлетворяет требованиям для  эксплуатации в «чистых помещениях» класса Р5 (100) по ГОСТ Р 50 766-95. Конструкция узлов и деталей удобна для промывки и очистки.

Срок поставки установки изготовленной «под заказ» 8-10 месяцев.

Гарантия – 1 год

МИКТ Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста УНФ-150ТП с термообработкой