Установка нанесения фоторезиста
Установка нанесения фоторезиста

Назначение установки: формирование на круглой пластине из раствора полимера плёнки с заданными значениями толщины и разнотолщинности.

Состав установки:

  • модуль центрифугирования;
  • модуль термообработки;
  • транспортный робот-манипулятор;
  • модуль загрузки/выгрузки пластин;
  • система управления установкой;
  • модуль термостабилизации фоторезиста;
  • защитный бокс.

Технологические возможности установки:

  • подача раствора полимера на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование);
  • подача раствора полимера в любую заданную точку пластины;
  • подача раствора полимера дозатором;
  • стабилизация и регулирование температуры раствора полимера;
  • удаление аэрозоля полимера с обратной стороны пластин;
  • удаление полимера с торца пластин;
  • удаление краевого валика;
  • автоматическая промывка ванны растворителем;
  • регулируемая вытяжная система модуля нанесения;
  • термообработка пластин на «горячей плите» контактным методом или на зазоре.

Потребительские характеристики установки:

Наименование Значение
1. Диаметр обрабатываемых пластин, круглых, мм
76÷150
2. Привносимая дефектность для частиц размером >0,2 мкм
<0,05 деф./см2
3. Среднее время наработки на отказ (MTBF), час
500
4. Среднее время ремонта (MTTR), час
1
5. Габариты установки, мм (ШxГxВ)
1030x750x2000

Основные технические характеристики:

НаименованиеЗначение
1. Диапазон задания скорости вращения, об/мин
10÷6000
2. Точность поддержания скорости вращения, об/мин
±5
3. Ускорение, об/мин/с
20000
4. Дискретность задания скорости, об/мин
10
5. Диапазон регулирования температуры фоторезиста, °С
18-50 ±0,1
6. Дискретность задания времени обработки, с
1,0
7. Диапазон задания времени обработки, с
1,0-999
8. Диапазон дозирования фоторезиста, мл
0,5-5,0
9. Точность дозирования, мл
±0,1
10. Диапазон задания температуры «горячей плиты», °С
70÷200
11. Точность поддержания температуры «горячей плиты»:
 
      70-120°С
±0,3 °С
      120-150°С
±0,5 °С
      150-200°С
±1,0 °С
12. Потребляемая мощность, не более, кВт
2,5

 

Система управления установкой:

  1. Система управления - на базе промышленной IBM PC.
  2. Система управления обеспечивает:
    • диагностику работоспособности установки;
    • хранение в памяти не менее 5 программ различных циклов обработки объекта;
    • мониторинг и регулирование технологического процесса в реальном масштабе времени (постоянную индикацию реальных технологических параметров и времени протекания процесса обработки объектов).
    • автоматическое поддержание технологических параметров процесса по загруженной заданной программе, обеспечение стабильности и воспроизводимости параметров;
    • возможность аварийного отключения установки.

Для работы установка подключается:

  • к однофазной электрической сети переменного тока напряжением 380/220 В, частотой 50 Гц; нормы качества электроэнергии по ГОСТ 13109-87;
  • сети сжатого, обеспыленного воздуха с давлением 0,4-0,6 МПа;
  • вытяжной вентиляции, с производительностью не менее 50 м3/час;
  • сети технической воды с температурой не более 14-16 °С;
  • контуру заземления.

Установка удовлетворяет требованиям для эксплуатации в «чистых помещениях» класса Р5 (100) по ГОСТ Р 50 766-95.

Конструкция узлов и деталей удобна для промывки и очистки.

МИКТ Инженерно-технический центр Установка нанесения фоторезиста автоматическая УНФ-150А